半導体・液晶関連製品

半導体産業および液晶産業の目覚しい発展とともに、その各工程で使用される製品に対する「高純度が必要とされる」ニーズはますます高まりつつあります。

そうした顧客ニーズに対応すべく、多摩化学工業は高品質な原材料・製品をリーズナブルな価格で安定供給しております。

当社では、現像液をはじめとし、洗浄液、薄膜形成材料、コロイダルシリカ、半導体用高純度Cuメッキ液など多岐にわたる半導体向け高純度薬品を生産しております。

製品の特長
現像液の特長

・国内外の複数の拠点(国内2拠点、海外3拠点)で合成から充填まで行っております。
・国内外に希釈・充填の拠点(国内4拠点、海外4拠点)を持っております。
・原料にハロゲン化物を使用しない独自の製法で製造しております。
・TMAHは、最大濃度が25%。

 

薄膜形成材料(TEOS)の特長

金属不純物、水分、有機不純物、パーティクルが非常に少ない製品です。

半導体用Cuめっき液、添加剤の特長

・基本液と添加剤をセットで納入可能。
・お客様とのデモ対応やカスタマイズされた添加剤の提供も可能。

超高純度洗浄液の特長

・洗浄液の中のコリンは国内の複数の拠点(3拠点)で合成から充填まで行っております。

ラインナップ

リソグラフィー用現像液

TMAH系
コリン系

薄膜形成材料

超高純度アルカリ洗浄剤

半導体用Cuめっき液

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  • ISO
  • 品質方針 環境方針 を公開しております。
    当社は全事業所で ISO9001(C0270777-IS1)および、ISO14001認証(C0270777-EM1)を取得しております。(ただしISO9001は対象外製品がございます)
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