TMAH系製品

有機の強アルカリ物質の高純度薬品で、半導体・液晶リソグラフィー用のポジレジスト用現像液として使用されています。

現在、半導体・液晶工場で使用されている現像液の主流は、TMAH（Tetramethyl ammonium hydroxide）系です。 この現像液は、TMAH濃度を希釈調製したタイプと、これに添加剤を加えたタイプの２種類に大別されます。

当社は、これら２種類の現像液を取り扱っています。国内外の複数の拠点で合成から充填まで行っており、原料にハロゲン化物を使用しない独自の製法で製造しています。

添加剤を加えた「AD-10」はレジスト表面に対する濡れ性が良好で、多くのレジストにマッチするため幅広い選択が可能です。
※医薬用外毒物に該当します。

コリン水溶液

有機の強アルカリ物質で、半導体用表面処理剤やリソグラフィー用のポジレジスト用現像液として広く使用されています。

強アルカリ性で水、アルコールに良く溶け、空気中の炭酸ガスを吸収して炭酸コリンになりやすい性質があるものの、無機アルカリのような炭酸塩による沈殿は生じません。また、無色透明の液体で特有なアミン臭を有しますが、生分解性が良く、活性汚泥処理で容易に分解されます。

Na, K 等のアルカリ金属や、他の重金属をほとんど含まない高純度な有機アルカリで、半導体製造工程での洗浄液および現像液として使用されます。また、陰イオン不純物も含まれていません。

金属不純物、水分、有機不純物、パーティクルが非常に少ない製品です。

CMPスラリーの砥粒、各種コーティング剤、セラミックバインダーなどに使用されています。
珪酸エステル類を原料にして、ゾルゲル法で合成しています。複数の形状、粒子径の製品を取り揃えています。

基本液と添加剤をセットで納入可能です。お客様とのデモ対応やカスタマイズされた添加剤の提供も可能です。

下記をはじめとしたあらゆる用途に対してご提案します。

• 半導体用Cuめっき基本液
• ダマシン用Cuめっき添加剤
• バンプ、再配線用Cuめっき添加剤
• TSV用Cuめっき添加剤

特に高い清浄度が要求される精密洗浄に最適な洗浄液です。

Na, K等のアルカリ金属や、他の重金属をほとんど含まない超高純度洗浄液で、Cl等の陰イオン不純物もほとんど含まれていません。このため、被洗浄体に対する汚染がないことはもちろん、洗浄液の温度を上げて使用した場合でもNaやClによるクリーンルームへの汚染がほとんどありません。従来の可燃性有機溶剤や市販の洗剤に比べ、優れた洗浄効果があります。

また、広範囲の複合汚染に対して、優れた洗浄効果を示すため、一括洗浄方式による効率的な洗浄が行え、薬品、純水使用量の削減が可能です。そのうえ、洗浄条件にもよりますが、20~30倍の希釈液で十分な効果が得られるため大変経済的です。化学組成が安定で、臭いがないため、加熱処理による洗浄も容易に行えます。

有機汚染を除き、シリコン、ガラスおよび非鉄金属等の多くに対して弱いエッチング作用を有し、表面の金属不純物の除去に優れた効果があります。さらに有機質汚染の除去にも優れた洗浄効果を示します。たとえば、ガラスやシリコン基板上の指紋やワックスに対しても十分な除去作用があります。
※医薬用外毒物に該当します。

TMSCは、以下のようなものの洗浄に適しています。
・シリコンウェハー、水品ウェハー、フォトマスク基板、光ディスク基板、コンバクトディスク基板、液品等のエレクトロニクス関連の各種基板、部品等
・ICP-AES や ICP-MS のネプライザーのような金属不純物を嫌う超微量分析に使用する器具類
・レンズ、プリズム等の光学工業部品
・石英ルツボ、石英管等の各種石英器具
・計測機器の部品やベアリング等の精密工業部品

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