半導体産業および液晶産業の目覚しい発展とともに、その各工程で使用される製品に対する「高純度が必要とされる」ニーズはますます高まりつつあります。
そうした顧客ニーズに対応すべく、多摩化学工業は高品質な原材料・製品をリーズナブルな価格で安定供給しております。
当社では、現像液をはじめとし、洗浄液、薄膜形成材料、コロイダルシリカ、半導体用高純度Cuメッキ液など多岐にわたる半導体向け高純度薬品を生産しております。
・国内外の複数の拠点で合成から充填まで行っております。
・国内外に希釈・充填の拠点を有しております。
・原料にハロゲン化物を使用しない独自の製法で製造しております。
・TMAHは、最大濃度が25％。
金属不純物、水分、有機不純物、パーティクルが非常に少ない製品です。
・基本液と添加剤をセットで納入可能。
・お客様とのデモ対応やカスタマイズされた添加剤の提供も可能。
・洗浄液の中のコリンは国内で合成から充填まで行っております。
リソグラフィー用現像液
| TMAH系 | |
|---|---|
| コリン系 |
薄膜形成材料
超高純度アルカリ洗浄剤
半導体用Cuめっき液
- 半導体用Cuめっき基本液
- ダマシン用Cuめっき添加剤
- バンプ、再配線用Cuめっき添加剤
- TSV用Cuめっき添加剤
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